<論文>1. 被陰条件下におけるホオノキ稚樹の葉の展開パターンと成長パターン
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概要
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ホオノキ稚樹の葉の展開パターンと伸長パターンに及ぼす光環境の影響を調べた。ホオノキ2年生稚樹を1990年春に相対照度10,20,40%の被陰区と対照区(相対照度100%)に植栽した。1991年4月下旬から9月中旬にかけてほぼ1,2週間おきに苗高, 地上5cmの位置の幹直径及び展開した正常葉の数と長さを測定した。ホオノキ稚樹の葉の展開及び伸長成長は次の4つのステージに分けられた。1期 : 伸長成長が小さく大型葉を展開することでシュート基部周囲の水平面を確保する時期, 2期 : 葉面積の拡大を抑制して伸長成長に物質を投資し垂直的な空間利用が行われる時期, 3期 : 伸長成長が低下して, 再び葉面積が拡大される時期, 4期 : 葉の展開終了時期で伸長成長はほぼ停止し葉面積も小さい時期である。また2期の急激な伸長成長は新しく展開する葉による自己被陰を防ぐ働きもあると考えられる。光環境は5月下旬から6月上旬の伸長開始時期の苗高の成長や菓の展開パターンには影響せず, その後の伸長や菓の展開に影響を及ぼした。このことから伸長開始時期の伸長や葉の形成は過去に蓄積された物質によるものであり, その後の明るい場所に生育する個体の伸長や葉の形成は当年の光合成産物を利用すると考えられる。
- 鹿児島大学の論文
- 1997-11-21
著者
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