3C01 外場応答性フォトニック結晶の作製(2004年日本液晶学会討論会)
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概要
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The fabrication of tunable photonic crystals responsive to external stimuli was studied. The inverse opal structure of SiO_2 was fabricated and their voids were infiltrated with liquid crystal, which was azobenzene derivative (AzoLC). The optical properties were evaluated by means of the reflection spectra. The changes in the peak position and intensity were observed after UV light irradiation. It should be caused by the photoisomerization of AzoLC leading to phot-induced phase transition from nematic to isotropic phase. The application as display devices was also studied. It was confirmed that photomask pattern could be recorded with UV light irradiation through the mask. Such material has an advantage that the recorded image could be observed without polarizers.
- 日本液晶学会の論文
- 2004-09-26
著者
-
瀬川 浩司
東京大学先端科学技術研究センター
-
高橋 一志
分子研
-
佐藤 治
神奈川科学技術アカデミー
-
久保 祥一
東大院工
-
藤嶋 昭
KAST
-
瀬川 浩司
東大院工
-
佐藤 治
KAST
-
藤嶋 昭
JR東海
-
瀬川 浩司
東大院工:東大院総合
-
久保 祥一
東大工
-
佐藤 治
九大先導研
-
藤嶋 昭
財団法人 神奈川科学技術アカデミー
-
佐藤 治
(財)神奈川科学技術アカデミー光科学重点研究室
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