26aB20P 磁気フィルター付負イオン源における一様性への電子挙動の影響(加熱・加速, 磁場・電源, 炉設計, 新概念, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
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概要
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JT-60UやLHDの負イオンNBIでは、大面積引き出し部 (JT-60U負イオン源 : 0.45m×1.1m) の長手方向に負イオンビームの空間的不均一が観察されている。これまでに原研10A負イオン源を用いてビーム不均一の原因を調べており、カスプジャンクション (プラズマ閉じ込め用カスプ磁石の異極同士が接触する部分) 周辺でフィルター磁場を超えて高速電子がプラズマ電極 (PG) 近傍へ流入し [1]、PG近傍での電子温度が1eV以上となる領域でビーム強度が低下していること [2]、などが明らかになっている。今回の研究ではイオン源内における高速電子の挙動を明らかにする為、フィラメント位置等を変えて詳細なプローブ測定とビームプロファイル測定を行った。その結果、1) フィラメント陰極から放出された高速電子はドリフトによってイオン源内を移動し、カスプジャンクションに向かう傾向にあること、2) フィラメント陰極の位置によってPG近傍への高速電子流入の割合が大きく異なること、などを明らかにした。
- 2004-11-20
著者
-
坂本 慶司
原研那珂研
-
谷口 正樹
原研那珂
-
渡邊 和弘
日本原子力研究所那珂研究所
-
畑山 明聖
慶応大学理工学部
-
畑山 明聖
慶大理工
-
井上 多加志
原研那珂研
-
花田 磨砂也
原研那珂研
-
渡邊 和弘
原研那珂研
-
花田 磨砂也
日本原子力研究開発機構
-
井上 多加志
原子力機構
-
加藤 恭平
慶大理工
-
水野 貴敏
慶大理工
-
関 孝義
原研那珂
-
柏木 美恵子
原研那珂研究所
-
花田 磨砂也
原子力機構
-
柏木 美恵子
原子力機構
-
大楽 正幸
原子力機構
-
渡辺 和弘
原子力機構
-
高戸 直之
原研那珂
-
大楽 正幸
原研那珂
-
花田 磨砂也
原研那珂加熱工学研
-
井上 多加志
原研那珂加熱工学研
-
渡邊 和弘
原研那珂加熱工学研
-
坂本 慶司
原研那珂加熱工学研
-
柏木 美恵子
原研那珂・加熱工学研
-
花田 磨砂也
原研那珂・加熱工学研
-
井上 多加志
原研那珂・加熱工学研
-
花田 磨砂也
日本原子力研究所那珂研究所
-
柏木 美恵子
日本原子力研究所核融合工学部nbi過熱研究室
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