等傾角ワイセンベルグ写真上のスポットサイズの伸縮に対する強度補正
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概要
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X線のピンホール系(コリメーター)における第1ピンホールの大きさを考慮して,等傾角ワイセンベルグ写真上の斑点の伸縮による強度の変化をあらわす式を導いた。この式によると,Phillipsの式〔Acta Cryst. (1954) 7 746～751.〕では説明しえなかった極く低次の伸びた反射に対する強度を補正することができる。我々の式を使ってえられる補正式とPhillipsの式とを比べた結果,結晶の回転軸方向の長さが0.5mm～0.6mmより長い場合には,実用上は極く低次の反射を除いて,Phillipsの式を使って強度補正をおこなうことができる。The divergence of an incident X-ray beam leads to the elongation of reflexion spots on one side of an equi-inclination Weissenberg photograph and the contraction on the other side. Assuming that an incident X-ray beam diverges from a point source at the centre of the first pin-hole, Phillips derived a formula for the variation of the lengths of reflexion spots and used this formula to correct the intensities of elongated spots only 〔Acta cryst. (1954) 7 746-751〕. By taking into account a finite size of a pin-hole, we have derived a formula for correcting the intensities of elongated spots as well as contracted spots on an equiinclination Weissenberg photograph. On comparison of Phillips' formula and ours, it is shown that Phillips' formula can be applied for the greater part of the reflexion spots except for a few spots of the lowest order when the length of a crystal used is longer than 0.5-0.6 mm along the rotation axis.
- 大阪教育大学の論文