不純物イオンによるアクティブマトリクス型LCDの表示残像
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概要
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TFT-LCDにおける表示の残像や焼きつけは液晶中の不純物イオンによる残留DCと相関があると考えられているが、実際の残像や焼き付けに相当する透過率の時間変化に関する議論は少ない。そこで、不純物イオンを含む液晶セルに直流電圧を印加して残留DCを誘起させた後、中間調のパルス電圧をして透過率と電圧保持率の経時変化を測定した。その結果、DC印加時間が長くなるにつれて電圧保持率が上昇して透過率が低下する残像や焼き付けにつながる時間変化が現れた。透過率低下は残留DCによるものではなく、配向膜への吸着による可動イオン密度の減少が主たる原因であると考えられる。
- 1999-03-05