MEMS集積化フォトニック結晶導波路の作製と評価(半導体レーザ関連技術, 及び一般)
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概要
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フォトニック結晶の光学特性を動的に制御する技術はフォトニック結晶の光集積化回路への応用上重要である。MEMSによる機械的変調はひとつの有用なアプローチである。我々は、フォトニック結晶導波路上にポリシリコンプレートを作製し、静電気力によりフォトニック結晶導波路とポリシリコン平板の間隔を変化させることで、フォトニック結晶導波路の特性を制御することに成功した。電圧印加に伴って、プレートがフォトニック結晶導波路に接近し、素子の透過率が減少した。印加電圧60Vで消光比〜10dB, 応答時間〜1msであった。同様な構成により、フォトニック結晶点欠陥共振器の制御なども可能であり、様々なフォトニック結晶素子の制御技術として重要となると期待できる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-12-02
著者
-
徳島 正敏
Nec 基礎・環境研究所
-
岩本 敏
東京大学生産技術研究所
-
荒川 泰彦
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
-
荒川 泰彦
東大ナノ量子機構:東大生産研
-
荒川 泰彦
東京大学先端科学技術研究センター
-
五明 明子
日本電気
-
年吉 洋
東京大学生産技術研究所マイクロメカトロニクス国際研究センター
-
年吉 洋
東京大学 生産技術研究所
-
年吉 洋
東京大学生産技術研究所
-
肥後 昭男
東京大学先端研
-
年吉 洋
東京大学先端研
-
徳島 正敏
NEC基礎研
-
五明 明子
NEC基礎研
-
山田 博仁
NEC基礎研
-
荒川 泰彦
東大生研
-
石田 悟己
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
-
岩本 敏
東京大学先端科学技術研究センター
-
肥後 昭男
東京大学生産技術研究所
-
石田 悟己
東京大学先端科学技術研究センター
-
五明 明子
MIRAI-Selete
-
荒川 泰彦
1995 1996年度エレクトロニクスソサイエティ和文論文誌編集委員会
-
山田 博仁
東北大学大学院工学研究科
-
Arakawa Yasuhiko
Research Center For Advanced Science And Technology And Institute Of Industrial Science University O
-
荒川 泰彦
東京大学先端科学技術研究センター・生産技術研究所
-
五明 明子
Nec基礎・環境研究所
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