ゾルゲル法による強誘電体PZTキャパシタ形成とその分極疲労特性
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概要
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1T1C型強誘電体メモリは破壊読み出し方式のため、蓄積容量の大きさがメモリ性能に結びつくことになり、まだまだ改善すべき点も多い。本研究では、PZTを用いた薄膜形成においてゾルゲル法による成膜の諸条件を見直し、各種解析及び技術改善に取り組んだ。その結果、成膜条件の最適化や、シード層、減圧アニール等を併用することで、高い分極特性やインプリント特性改善等の問題解決が可能であることが示唆されたので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-03-08
著者
-
鈴木 薫
大阪医科大学附属病院薬剤部
-
鈴木 薫
ブラザー工業(株)
-
鈴木 薫
シャープ株式会社技術本部エコロジー技術開発センター
-
長澤 豊
シャープ株式会社技術本部エコロジー技術開発センター
-
木島 健
シャープ株式会社 機能デバイス研究所
-
木島 健
シャープ株式会社技術本部エコロジー技術開発センター
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