Si(111)7×7表面の熱酸化初期過程
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概要
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Si(111)7×7表面の熱酸化過程をSTM、XPS及び強結合近似に基づくSTMシミュレーションにより調べ室温酸化と比較した。熱酸化(600℃)の初期過程は以下の様に要約できる。まず、酸化の極初期段階で島状酸化物(10-100Å幅)が形成される。この酸化物は局所的に2-3層の厚みを持っている。(室温酸化物は、表面に点状にランダムに分布しており、個々の酸化物はSi層1層分の厚みしか持たない)。酸素暴露量を増大させると島状酸化物は横、縦両方向に成長する。さらに酸化を進めると互いに合体し、連続膜を形成する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-04-22
著者
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