O_2RIEにおけるエッチング速度と形状の制御
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
酸素を主体とするプラズマによる多層レジストの加工(O_2RIE)において、エッチング面積とガス流量の比(S, Fパラメータ)を一定に保つことにより、さまざまなエッチング面積のサンプルに対し、同じエッチング速度とレジスト形状を与える手法を開発した。イオン衝撃が一定の条件下においてはS/Fパラメータによりガス組成が一意的に決定され、エッチング速度と形状が制御される。S/FパラメータはMogabのローディング効果理論をO_2RIEの実験結果により拡張する事で導出され、エッチング速度とガス組成は、S/Fパラメータの関数として記述されている。さらにエッチング速度とレジスト形状の間には強い相関がある事が見出された。この相関を利用した形状制御手法も併せて提案する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-10-28
著者
関連論文
- エタノールガス添加O_2RIE
- G^b DRAM 対応ドライ現像技術
- O_2RIEにおけるエッチング速度と形状の制御
- ハーフトーン位相差法における輪帯照明条件の効果
- 共役型位相シフタによる高解像力位相差露光法 (VLSI特集)
- 光リソグラフィによる微小コンタクトの形成技術