0.1μm時代の光リソグラフィ技術 : 課題と可能性

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概要

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ArF露光法と超解像技術の組み合せは0.13μm世代デバイスへの最短距離にあるが、適用ルールが波長以下であることから新たな課題が生じている。ここではプロセスサイドの問題点として以下3点について述べる。第1に、超解像の性能はパターン形状に強く依存するため、その特性を活かした超解像パターンレイアウト設計が必要となる。第2に、0.1μmに近づくと光学系収差、レジスト中の酸拡散等これまで問題とならなかった効果が解像性能を律速する。このため、光学系とレジスト性能の一層の向上が必要である。第3に、上記効果を含む近接効果を補正するためのプロセスキャラクタリゼーションとマスクパターン補正法の確立、これを可能とするシミュレーションが重要となる。
1997-11-21

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