レーザ照射シリコン基板マイクロストリップ線路の伝搬特性
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概要
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本論文では,間げきを有するシリコン基板マイクロストリップ線路に,レーザ光線をスポット状に照射して線路の散乱特性を制御することを試みる.レーザ光線のスポット径や照射位置,プラズマの厚みが散乱特性に与える影響を(FD)^2TD法によって理論的に詳しく調べたところ,間げきよりスポット径の小さいレーザ光線を照射すると散乱パラメータに双峰特性が生じること,またスポット径の大きいレーザ光線を用いることにより低いプラズマ密度で広帯域な光制御特性が得られることが明らかになった.終わりに,実験結果との比較検討を行った.
- 1996-10-25
論文 | ランダム
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