テール関数に基づくイオン注入データベース(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)
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概要
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不純物、エネルギー、ドーズ、tilt, rotationとイオン注入条件は非常に大きなマトリクスとなり、それに対応するデータベースも膨大になる。そのため、イオン注入分布を表現する関数のパラメータはユニークにしかも連続値を持っている必要がある。イオン注入分布を表現する関数として、これまでdual Pearsonが採用されてきた。しかし、この関数はパラメータのユニーク性に関して問題がある。われわれは、ユニーク性にすぐれたテール関数をその横方向分布も含めた形で提案し、幅広いイオン注入分布をカバーするデータベースを構築した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-11-22
著者
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