シリコンベース光共振器・導波路の動作特性 : ポーラスシリコンの高い屈折率制御性を用いた光デバイスの作製
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概要
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ポーラスシリコンの屈折率は,その作製条件で容易に広い範囲で制御することができる.この特性を利用して,既存のシリコンモノリシックプロセス技術を用いて光導波路をシリコン基板上に作製し,可視光での動作を確認した.また,本光導波路の特徴であるコア層とクラッド層の大きな屈折率差を生かし,ミクロンオーダーの曲率半径を持つ曲がり導波路を作製し,動作を確認した.さらに,基板深さ方向の屈折率の制御により分布屈折率多層膜反射鏡を作ることができ,これを用いたファブリペロー光共振器を作製した.光共振器は近赤外域のレーザ励起で特異なヒステリシス特性を示し,光の閉じ込めによる非線形屈折率変化で説明できることが分かった.いずれの光デバイスも,ポーラスシリコンを用いたシリコンベース光電子集積の可能性を示している.
- 1999-06-23
著者
-
舛本 泰章
筑波大物理
-
越田 信義
東京農工大学大学院 ナノ未来科学研究拠点
-
松本 貴裕
スタンレー電気
-
越田 信義
東京農工大 大学院
-
越田 信義
東京農工大大学院
-
Koshida Nobuyoshi
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Technology Tokyo University Of Agricu
-
Koshida Nobuyoshi
Department Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo University Of Agriculture And Technology
-
Koshida Nobuyoshi
Division Of Electronic And Information Engineering Faculty Of Technology Tokyo University Of Agricul
-
舛本 泰章
科学技術振興事業団単一量子点プロジェクト
-
高橋 森生
東京農工大学工学部電気電子工学科
-
鳥海 裕一
東京農工大学工学部電気電子工学科
-
松本 貴裕
科学技術振興事業団舛本単一量子点プロジェクト
-
Koshida N
Tokyo Univ. Agriculture And Technol. Tokyo Jpn
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