レーザーアブレーション法による半導体微粒子の創製
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概要
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粒径が数nm程度の半導体微粒子は、量子サイズ効果によりバルク結晶とは異なった光特性や光化学的特性を示すことが知られている。本研究では、TiO2ナノクラスターをレーザーアブレーション法により作成し、その物性を湿式合成試料と比較することにより検討した。具体的には、真空中で試料(ルチル型のTiO2焼結体)にYAGレーザー光(基本波、第2高調波、および第4高調波を使用)を照射して試料をプラズマ状に蒸発させ、これに高圧の希ガスを噴射することにより急冷させナノサイズのTiO2のクラスターを得た。さらに、生成物の特性をTEM、 ED、 XPS、およびフォトルミネッセンス法により評価した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-15
著者
-
小田原 修
東京工業大学総合理工学研究科材料物理化学専攻
-
余語 克則
三菱総研
-
石川 正道
三菱総研
-
石川 正道
三菱総合研究所
-
亀井 信一
株式会社三菱総合研究所
-
石川 正道
株式会社三菱総合研究所
-
亀井 信一
三菱総合研究所
-
小田原 修
東京工業大学
-
石川 正道
(株)三菱総合研究所
-
余語 克則
三菱総合研究所
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