遺伝的アルゴリズムのボロンイオン注入分布パラメータ抽出への応用

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概要

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• SIMSで測定したイオン注入分布を基にして、プロセスシミュレータで用いるイオン注入パラメータの抽出を行った。遺伝アルゴリズム(GA)を利用した最適化手法をボロンイオン注入パラメータの抽出に適用した結果、抽出されたパラメータのエネルギーおよびドーズ量依存性は妥当であることが示された。GAを用いた場合、相応の精度を得るにはかなりの計算時間を必要とするため、GAで抽出したパラメータを初期値としてLevenberg-Marquardt法(LM法)で抽出する手法を検討した。その結果、GA単独の場合に比べて計算時間は約1/10に短縮できることがわかった。

• 1996-09-26

著者

• 鈴木 腕

  富士通株式会社デバイス開発部

• 小島 修一

  富士通株式会社デバイス開発部

• 佐藤 眞木彦

  富士通(株)知的システム研究部

• 須戸 律雄

  (株)富士通研究所基盤技術研究所ULSIプロセス研究部

• 小島 修一

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 鈴木 腕

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 鈴本 邦広

  (株)富士通研究所基盤技術研究所ULSIプロセス研究部

• 鈴本 邦広

  富士通研

• 佐藤 眞木彦

  富士通(株)計算科学研究センター第2研究部

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