高NA分散シフトファイバによる高反射率ファイバグレーティング
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概要
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高圧水素充填された光ファイバに波長200~300nmの紫外線を照射すると10^-3以上の大きな屈折率変化を示し、結果として高反射率のファイバグレーティングが得られる。しかしながら、そのような大きな屈折率変化のもとではクラッドへの放射モードによりブラック反射波長よりも短波長側の領域で大きな損失が生じ、ファイバグレーティングの特性上大きな問題になる。この対策としてはコアとクラッドの中間に光感度を有するバッファ層を形成する方法2)や高NAのファイバを用いる方法3)が考えられる。今回、高NAの分散シフトファイバを用いてファイバグレーティングを作製し、通常の分散シフトファイバによるファイバグレーティングと比較検討したので報告する。
- 1996-03-11
論文 | ランダム
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