a-C:H膜における光照射効果のXPSによる評価
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概要
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プロパンガスを原料としてRFグロー放電法により作製されたアモルファス水素化炭素(a-C:H)膜に空気中で紫外光照射処理をほどこすと、発光強度の減少、光学吸収端の高エネルギー側への移動、膜厚の減少を引き起こす。光照射によるa-C:H膜構造の変化を、光電子分光法(XPS)で評価した。光照射は、空気中および真空中で行った。その結果、酸素が膜内に取り込まれ、この酸素は、炭素と水素と複雑に結びつき、膜をより複雑な構造に変化させている。膜内に取り込まれた酸素は、空気中にある酸素と水分であると考えられる。また、光照射による光学吸収端の移動量を膜内に取り込まれた酸素量に対応があることを示唆する結果が得られた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-15
著者
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