走査型プローブ顕微鏡を用いたLSIの電気特性評価(<特集テーマ>:「LSIシステムの実装・モジュール化, テスト技術, 一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
FeRAMは低電圧動作、高耐久性、低消費電力などの特長を有し、理想のメモリとして期待されている。今回、既存の走査型プローブ顕微鏡(SPM)を利用して、上部電極はSPMによりコンタクトをとり、下部電極はマニュアルプローブを用いて任意セルの電気特性を測定できる新評価システムを構築した。下部電極用パッドは、測定時の寄生容量が最小となるように工夫してFIBで作成した。コンタクトホール径が小さい場合はFIBで金属を埋め込んで測定する手法を開発した。これにより、これまで不可能であった単ビットキャパシタの測定が可能となった。工程途中でのキャパシタの劣化の解析や、デバイスの不良解析等に非常に有効な手段となった。
- 2001-12-13
著者
-
吉田 親子
富士通研究所
-
大谷 成元
富士通研究所 メモリデバイス研究部
-
大谷 成元
富士通研究所 シリコンテクノロジ研究所
-
吉田 親子
富士通研究所 シリコンテクノロジ研究所
-
近藤 和昭
富士通研究所 シリコンテクノロジ研究所
関連論文
- 強誘電体をゲート絶縁膜に用いた誘電体ベーストランジスタ
- 28p-APS-22 LT-SEMによる超伝導薄膜の観察
- Al_2O_3-膜の電気特性に対する窒素添加効果
- 高集積MRAM用の砂時計型MTJによる反転磁界の低減(新型不揮発性メモリ)
- エンベデットFRAMの技術動向
- 走査型プローブ顕微鏡を用いたLSIの電気特性評価(:「LSIシステムの実装・モジュール化, テスト技術, 一般)
- 走査型プローブ顕微鏡を用いたLSIの電気特性評価(:「LSIシステムの実装・モジュール化, テスト技術, 一般)
- 強誘電体キャパシタのプロセス劣化
- 強誘電体キャパシタのプロセス劣化
- 強誘電体キャパシタのプロセス劣化
- 「電子デバイス未来論 : 21 世紀の液晶・半導体はビジネスチャンス」, 川西剛著, 工業調査会, B6 判, 本体 1500 円