二次イオン質量分析法を用いた窒化ケイ素-金属接合界面の分析
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概要
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SIMSを用いて窒化ケイ素と金属との接合界面の元素及び生成物の深さ方向分布分析及び三次元分布分析を行い,以下の知見を得た.(1)窒化ケイ素と金属との接合界面に存在する反応生成物層が二層構造になっているという,これまでの分析電子顕微鏡及びX線光電子分光分析結果が確認できた.(2)ろう材成分の一つである銀が接合界面付近にも微量ではあるが含まれていることが新たに分かった.(3)反応生成物であるケイ化チタン濃度の平面方向の位置による差は深さ方向の差に比べて少ないことが分かった.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1989-10-05
著者
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志智 雄之
日産自動車(株)中央研究材料分析センター
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志智 雄之
日産アーク
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松長 正治
日産自動車(株)中央研究所材料研究所
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志智 雄之
日産自動車(株)中央研究所材料研究所
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松清 健二
日産自動車(株)中央研究所材料研究所
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松長 正治
日産自動車 中研 材研
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