多層化によるFe-Si/Crエピタキシャル膜の高透磁率化 (<特集>ソフト材料)

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概要

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• Epitaxial Fe-7.2 wt% Si(111) monolayer films and Fe-Si(111)/Cr(111) multilayer films were prepared on Si(111) substrates by facing-targets sputtering. Excellent soft magnetic propertied were obtained in monolayer films with a thickness of less than 200 nm, and Fe-Si(111)/Cr(111) multilayer films with a Cr layer thickness of 20nm. Torque measurements of the monolayer and multilayer films showed that an anomalous increase in the effective anisotropy energy caused a deterioration in the soft magnetic characteristics.

• 社団法人日本磁気学会の論文
• 1997-04-15

著者

• 佐藤 和幸

  (株)ジャパンエナジー 材料部品研究所

• 栗原 敏也

  (株)ジャパンエナジー 材料部品研究所

• 八重樫 誠司

  (株)ジャパンエナジー,材料部品研究所

• 佐藤 和幸

  (株)ジャパンエナジー総合研究所

• 八重樫 誠司

  (株)ジャパンエナジー 材料部品研究所

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