5-3 半導体製造プロセスにおける電磁力の応用 : マクロとナノスケールの融合
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概要
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This paper aims to study mechanism of heat and mass transfer in silicon melt under electromagnetic Czochralski growth (EMCZ). The EMCZ method is a one of the candidate method to reduce density of voids in which a lot of vacancies are agglomerated. The experimental works revealed that heat and mass of oxygen impurity was enhanced in the EMCZ method, while the mechanism of such enhancement is not clarified. The object of the present work is to clarify the enhancement mechanism of heat and mass transfer. Moreover, molecular dynamics simulation was carried out to estimate distribution of defects during growth.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2002-10-30
著者
-
柿本 浩一
九州大応力研
-
田代 昭正
九州大応力研
-
橋本 良夫
九州大学応用力学研究所
-
石井 秀夫
九州大学応用力学研究所
-
篠崎 高茂
九州大学応用力学研究所
-
石井 秀夫
九州大応力研
-
篠崎 高茂
九州大応力研
-
橋本 良夫
九州大応力研
-
篠崎 高茂
九大応力研
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