中国東北地区日中関係史研究会編 鈴木静夫・高田祥平編訳 鹿毛加寿子・白根理恵・鈴木 光・飛田立史訳『中国人の見た中国・日本関係史 : 唐代から現代まで』 : 東方出版 一九九二・一二刊 B6 四五〇頁
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概要
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- 1993-07-20
論文 | ランダム
- 高誘電体ゲート絶縁膜/Si基板界面改質によるトランジスタ特性と絶縁膜長期信頼性の改善
- Hf系高誘電率ゲート絶縁膜のAl濃度変調及びパーシャルシリサイドゲート電極によるCMOS非対称閾値の改善(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
- 表面に浅溝構造を有するシリコン基板の選択酸化後残留応力評価
- キャリア分離法を用いた high-k stack ゲート絶縁膜のキャリア伝導及び絶縁性劣化機構の解析
- アモルファスシリコン薄膜における結晶化誘起応力の検討