サル頬側裂開型骨欠損にエナメルマトリックスデリバティブ(EMD)を応用したのちにみられる新付着形成の超微構造
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概要
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目的近年,真の歯周組織再生という観点から,エナメルマトリックスデリバティブ(EMD)が注目されている.しかし,このEMD応用による新生セメント質形成過程には未解明な点が多々残されている.そこで我々は,サルに頬側裂開型骨欠損を作製し,露出根面にEMDを塗布した群(EMD群)と塗布しなかった群(対照群)との結合組織性付着の回復を比較しながら超微構造学的に観察を行い,検討した.実験材料および方法実験動物には健康歯肉を有したサル6頭を用い,その上顎左右側小臼歯群を実験部位とした.手術では全層弁を形成後,セメント・エナメル境より根尖側4mmの頬側の歯槽骨,歯根膜とセメント質を除去した.左側根面にはEMDとしてエムドゲイン^○!Rを塗布(EMD群),右側根面には何も塗布せず(対照群),歯肉弁を復位させ縫合した.実験期間は2,4および8週とし,期間経過後,術部を一塊として採取し,固定,脱灰ののち,通法に従ってEpon 812に包埋した.包埋試料は,まず準超薄切片を作製して光顕的に観察を行い,続いて超薄切片を作製し,透過型電子顕微鏡にて観察,撮影した.実験結果および考察光顕所見対照群:全観察期間において接合上皮の深部増殖が少なく,かなりの幅の結合組織性付着がみられた.術後8週例では,新生セメント質が掻爬根面の根尖側1/4にまで形成されていた。また,掻爬根面には部分的に吸収窩が存在した.EMD群:対照群に比べ,2週で根面に隣接する結合組織性付着部にcellularityが高く認められた.4週になると新生セメント質の形成がみられ,8週で根尖側の半分にまで形成された.また,掻爬根面には大小の吸収窩がみられ,8週においてもなお根吸収像が観察された.電顕所見対照群:2週の根吸収のない根面では,伸展した線維芽細胞が根面に沿って平行に配列し,根面と再生結合組織との境界部に電子密度の高い顆粒状物質の沈澱,集積した層(d.g.l.)がみられた.その後,根吸収の有無にかかわらず,形成された新生セメント質では,コラーゲン原線維が根面上に集積された.また,根収窩では,d.g.l.が欠如あるいは不明瞭となり,象牙質基質原線維と新生コラーゲン原線維の交錯が一部でみられた.EMD群:2週の根吸収のない根面では,r-ERの中程度に発達した細胞が数層になって配列し,根面と再生結合組織との境界部にd.g.l.がみられた.4週以後では,根吸収の有無にかかわらず,形成された新生セメント質では,根面上にコラーゲン原線維が対照群に比べ密に集積された。また,根吸収によりd.g.l.欠如あるいは不明瞭となった領域が対照群に比べ広範囲にみられ,象牙質基質原線維と新生コラーゲン原線維の交錯が多く認められた.以上の組織所見より,EMD群では活性ある細胞が早期に根面に隣接して配列し,根面と細胞間にコラーゲン原線維の形成を示した.さらにこのコラーゲン原線維の集積が,対照群に比べ密であったことから,EMDは新付着形成を促進することを示唆した.また,EMD塗布根面で再生結合組織との境界部では,多くの領域で象牙質基質原線維と新生コラーゲン原線維との交錯がみられたことにより,既存組織と新生セメント質の結合を緊密にしていることを証明した.
- 2002-06-25
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