SOR 用たて形 X 線ステッパの開発
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概要
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A vertical X-ray stepper for SOR lithography has been developed. The stepper exposes wafers in a normal atmosphere to vertically-scanned SOR with continuous alignment control during exposure. The key devices of the stepper are a vertical X-Y stage and on optical-heterodyne alignment system. The X-Y stage uses air-lubricated components, including air bearing lead screws, linear sliders and radial/thrust bearings. The optical-heterodyne alignment system detects the displacement between the mask and wafer gratings with precision of 8.3 nm. Several exposure experiments proved that the alignment capability is better than ±0.1μm for a 3σ-value.
- 社団法人精密工学会の論文
- 1991-03-05
著者
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石原 直
日本電信電話(株)lsi研究所
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宇根 篤〓
日本電信電話(株)LSI研究所
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金井 宗統
日本電信電話(株)LSI研究所
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鈴木 雅則
日本電信電話(株)LSI研究所
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福田 眞
日本電信電話(株)LSI研究所
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小俣 冨士夫
日本電信電話(株)LSI研究所
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福田 眞
Ntt Lsi研
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石原 直
Ntt
-
小俣 冨士夫
日本電信電話(株)境界領域研究所
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