触媒調製プロセスがハイドロキシアパタイト触媒のCa/P比および表面塩基性に及ぼす影響

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概要

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沈殿法でハイドロキシアパタイト（HAP）を調製する時，調製時の因子とHAPのCa/P比および表面塩基性についてこれまで系統だって比較検討した報告はなかった。そこで，我々はHAP触媒の塩基性の精密制御を目的とし，その手段として調製時の重要な因子と思われる原料Ca/P比，溶液のpH，溶液温度および撹拌時間に注目し，上記因子がHAPのCa/P比および表面塩基性に与える影響を検討した。その結果，調製時の因子を制御することで任意のCa/Pモル比のHAPを調製することができ，HAPのCa/P比は調製時のpHが原料仕込み比よりも大きな影響力を有し，次いで撹拌温度，撹拌時間の順であった。また，調製時の因子およびパラメーターが異なっていても，得られたHAPのバルクのCa/P比が同じであれば，ほぼ同じ塩基量を持つことが分かった。すなわち，沈殿法により調製した場合，HAPの塩基量はバルクのCa/P比のみに依存する。
2009-03-01

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