チャージアップのないプラズマイオンプロセス
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概要
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Needs for processing insulators such as glasses, ceramics, polymers and diamond by plasmas are emerging recently. Problems are arising from electrostatic charging of the insulator surface. In this article, the surface charging of insulator by impact of plasma ions and its effect on processes are briefly reviewed. The pulse bias method and the radio-frequency (RF) bias method are taken as examples of the practical method which is able to circumvent the problem of the surface charging. Finally, the dual plasma method in which no charging happens on the insulator surface even if it is continuously irradiated with energetic ions is proposed.
- 2008-02-20
著者
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