チャージングを回避したSEMによる絶縁物の電子放出率の測定
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Scanning electron microscope (SEM) observation of an insulator material often suffers an abnormal contrast image from a charging phenomenon, which is caused by accumulation of a part of primary electrons inside the material. In order to avoid the charging phenomenon, it is important to observe the insulator material under the primary electron energy condition that the total electron emission yield σ is equal to unity. In order to find out the above primary electron energy condition, we have measured the electron emission yield σ as a function of the primary electron energy Ep for several insulator materials. In this case the specimen (= the insulator material) has been heated up to 700 °C where the charging phenomenon disappears. The value of σ has been determined by measuring both the primary electron current (Ip) and the conduction electron current (Ia=Ip-σIp) flowing to the ground through the specimen stage. We also found that the primary electron energy corresponding to σ=1 can easily be determined by the condition that the conduction electron current Ia takes a minimum value. For example, the primary electron energy that gives the condition of σ=1 for Si3N4 has been found to be Ep=3.1 keV. We have also measured the secondary electron emission yield δ of the insulator material using the contrast method, which is based on the signal intensity ratio of the SEM image of the boundary between Au and the insulator material.
- 2006-12-01
著者
関連論文
- 21pBF-6 電界放出型超高輝度電子エミッターの検討(21pBF ビームダイナミクス・数値計算・電子顕微鏡・線形加速器・ビーム源・ビーム診断,ビーム物理領域)
- マルチエミッタ評価装置による電子放出素子のその場・real time観察(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 配向性垂直成長カーボンナノチューブからの電界放出の計算機シミュレーション(2) : ナノチューブ先端の電界強度計算
- 配向性垂直成長カーボンナノチューブからの電界放出の計算機シミュレーション(1) : 計算手法と計算モデル
- 植物の光合成反応解析(植物診断)センサー : 変調分光法を用いた形質転換植のストレス応答反応の解析
- マスク描画用高輝度高エミッタンス電子銃の開発(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- Zr-Si/W(100)field emitterからの放出電子の収束特性
- 高放出角電流度Zr-Si/W(100) Field Emitter
- Zr-Si/W(100)field emitterからの放出電流特性
- C-13-4 アゾポリマーの光誘起性形状変化を利用した生体分子液晶の配向(C-13. 有機エレクトロニクス,一般セッション)
- 光照射によりレリーフ構造を形成したアゾポリマフィルム表面での生体分子液晶の配向
- 光照射によりレリーフ構造を形成したアゾポリマフィルム表面での生体分子液晶の配向(有機材料,一般)
- 相対論を考慮した静電加速レンズの収差係数の計算
- Energetic Boersch Effectのビームエネルギー依存性の評価
- Energetic Boersch Effectのビームエネルギー依存性の計算機シミュレーション
- 低加速SEMによる半導体デバイス2次電子像のコントラストメカニズム
- 光照射によるアゾポリマー表面の変形を利用した微粒子の複合配列(有機材料・一般)
- C-3-23 光応答性アゾポリマーを利用した微粒子の複合配列(フォトニック結晶ファイバ・素子,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 走査型近接場光学顕微鏡を用いたアゾポリマへのナノ光加工(有機分子エレクトロニクスの現状と将来展望論文小特集)
- C-13-3 アゾポリマーへの近接場光記録形状 : 偏光方向の影響
- ビデオサーバを用いたマルチメディア教材配信システムの構築
- 24pYF-4 カリウムをドープした2種類の単層カーボンナノチューブのラマン散乱
- 多層カーボンナノチューブの作製法とその物性
- 平板状消弧室におけるノズルの軸方向位置と遮断能力
- アゾポリマ表面への微粒子の二次元配列及び光照射による選択的固定(有機エレクトロニクス)
- アゾポリマー表面に規則配列した微粒子の光による選択的固定
- 光応答性アゾポリマーフィルム表面への微粒子の2次元配列と固定
- 光応答性アゾポリマーフィルム表面への微粒子の2次元配列と固定(有機エレクトロニクス・一般)
- 超高圧電子顕微鏡(HVEM)
- TC-3-6 光音響分光法による植物光合成の測定
- レーザ光を用いた新しい顕微鏡
- チャージングを回避したSEMによる絶縁物の電子放出率の測定
- 磁界重畳型電界放出電子銃の電子光学的特性の理論的解析
- SEMによる非導電性試料の帯電電荷量の測定
- 光高温計および放射温度計を用いたW細線温度の測定
- 走査形電子顕微鏡による半導体素子の検査法
- エキシマレ-ザと最近の応用技術
- レ-ザ-核融合用ペレットのプラズマ重合膜コ-ティング
- 5-10 トランスレス降圧整流回路
- Remolding処理によるBlunt W tip先端上Nano-Pyramid形成支援(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)