X 線光電子分光法の深さ方向分析における Au/Cr/SiO_2 界面での帯電現象の研究
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Charging in depth profiling in X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) for metal layers on insulated substrates (Au/Cr/SiO<SUB>2</SUB> (Quartz)) was studied. In the depth profiling using a neutralizer, differential charging was observed at the Cr/ SiO<SUB>2</SUB> interface by conducting the sample to the analyzer. This charging should be strongly related with the change of the surface morphology from Cr “layer” to “islands” on SiO<SUB>2</SUB> substrate during sputtering. In the insulated case from the analyzer, almost no differential charging was observed at the Cr/SiO<SUB>2</SUB> interface. This is quite helpful for the identification of chemical state at the metal/insulator interface. Thus, it is concluded that the depth profiling in XPS for metal layers on insulated substrates required a uniform surface potential at the metal/insulator interface during sputtering by insulating the sample from analyzer.
- 日本真空協会の論文
- 2003-06-20
著者
-
種村 眞幸
名古屋工業大学院工学研究科
-
種村 榮
名古屋工業技術研究所
-
種村 榮
名古屋工業大学都市循環システム工学科
-
種村 榮
名古屋工業大学大学院
-
種村 眞幸
名古屋工業大学都市循環システム工学科
-
森 行正
日本ガイシ(株)中央研究所
-
種村 榮
名古屋工業大学
-
種村 眞幸
名古屋工業大学 大学院工学研究科 未来材料創成工学専攻
-
種村 眞幸
名古屋工業大学
関連論文
- パッシブソーラー素子研究開発の現状と課題 - 特に先進窓材料を中心に -
- 電位分布測定用導電性AFM探針と有機半導体間の接触抵抗評価(材料デバイスサマーミーティング)
- 放射冷却面に対する風の影響とその制御
- 韓国オンドル用石材の赤外分光放射率
- V_W_XO_2薄膜を第二層としたSiO選択放射材料の作製と赤外反射スペクトル
- 可視光応答型酸化チタン薄膜の光触媒特性
- シリカエアロゲルの熱伝導率測定と放射伝熱解析
- 薄膜シリコン太陽電池用セラミックス基板の設計
- 各種白色塗料の光学特性
- 酸化ニオブエレクトロクロミック薄膜の着消色メカニズム