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Department Of Electrical Engineering Toyo University | 論文
- 高齢化社会の到来とヘルスケアチップの創製 : ドライエッチング技術の展開
- 日々の健康管理 -ヘルスケアデバイスの創製-
- プラズマプロセスによるバイオチップの開発と展望
- 大気圧マイクロプラズマジェットの微細加工への応用
- VHF駆動によるマイクロプラズマの生成技術とマイクロ化学分析システムへの応用
- 高アスペクト比ULSIエッチング技術
- 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
- Etching Reactivity of Negative Ions Generated in Cl_2 Downstream Plasma
- プロセス用プラズマの制御最前線 (制御されたプロセス用プラズマを目指して--その現状と将来展望)
- Electron Energy Control in Inductively Coupled Plasma Employing Multimode Antenna
- Thin Film Detection Employing Frequency Shift in Sheath Current Oscillation
- Excitation of Sheath Oscillating Current by Superimposing Pulse Voltage
- Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon : Etching and Deposition Technology
- Atomic Layer Controlled Digital Etching of Silicon
- Fabrication of Quartz Microcapillary Electrophoresis Chips Using Plasma Etching
- Gap-Filling of Cu Employing Self-Sustained Sputtering with ICP Ionization
- 負イオンプラズマによるシリコンエッチング
- 4. 高密度RFプラズマによる高速・高選択比SiO_2エッチングと反応機構 (ドライエッチング用プラズマ)
- Silicon Etching Employing Negative Ion in SF_6 Plasma
- 半導体製造用プロセシングプラズマ(期待されるブレイクスルー)