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日立マクセル(株)開発本部 | 論文
- 超解像光磁気メモリ (特集:進展する光メモリ技術)
- 酸化物単結晶基板を用いたCoCrPt垂直単結晶薄膜の作製
- CoCr合金磁気記録媒体の微細構造と磁気特性に及ぼす非磁性下地の効果
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- 酸化物単結晶基板を用いたCoCrPt垂直単結晶薄膜の作製
- 高転送レートDVD-RAM
- CoCr系合金薄膜媒体の偏析構造と基本磁気特性
- ECRスパッター法で形成したシード層の結晶配向性とCo-Cr-Pt面内媒体の磁気特性
- CoCrPt垂直単結晶薄膜の作製
- 相変化記録膜による50GB/side容量ライトワンスディスク(光記録・一般)
- 超臨界二酸化炭素を用いた改質成形, 無電解めっき技術
- 超臨界二酸化炭素を用いたプラスチックへのめっき技術 (マテリアルスポット MEMS,半導体,オプトエレクトロニクスにまで可能性を持つ 超臨界流体.超臨界CO2を用いた新しいマテリアル開発のトレンド)
- 超臨界二酸化炭素を用いた成形, 無電解めっき技術
- 磁区拡大再生を利用した超高密度光磁気記録
- Zero Field MAMMOSによる高密度光磁気記録
- Tb/in^2級高密度磁気記録媒体実現への課題と材料設計
- 超臨界二酸化炭素を用いた射出成形および無電解めっき技術の開発
- 超臨界二酸化炭素を用いたプラスチック表面の改質とナノレベル制御 (新春特集 ナノテクノロジーのための超臨界流体技術)
- 超臨界二酸化炭素を利用した射出成形およびめっき技術 (特集 超臨界流体を用いた加工技術)