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山口大 工 | 論文
- エキシマ・レーザ・アニールによる多結晶シリコンの結晶成長 : 水素と基板熱伝導度が臨界エネルギー密度に与える影響を考慮して
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
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- エキシマレーザアニーリング時におけるディスク形状多結晶Si粒の形成(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- エキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化多結晶シリコンの応力緩和
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- ELA法によりSiO_2/SiN/glass基板上に形成されたpoly-Si薄膜の結晶成長と水素の関係
- ブリッジ形共振ACリンクスンバ方式三相正弦波ソフトスイッチングPWMインバータの性能評価
- 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
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- 杭の急速載荷試験への拡張カルマンフィルターの適用性に関する検討
- STUDY ON THE SETTLEMENT OF SATURATED CLAY LAYER INDUCED BY CYCLIC SHEAR
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- エキシマレーザ・アニールpoly-Si膜のディスク状結晶粒成長における水素の効果(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
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- 菱沸石およびA型ゼオライトのMg^イオン交換
- メッシュ配列並列計算機の耐故障化のための再構成に関する1考察 : 危険なプロセッサ数の最小化
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