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大阪市立工業研究所 電子材料研究部 | 論文
- Organosilicon Symposium に参加して
- シリコ-ン-MMA系グラフト ・ ブロック 共重合体の合成とその表面特性
- n-ドデシルベンゼンスルホン酸で架橋したシクロテトラシロキサン基含有メタクリル酸エステル-メタクリル酸メチル共重合体のESCA分析
- カルバゾリルシロキサン側鎖を有するコポリシランの合成と表面電位減衰特性
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(8)ベンゾインスルホネートによるメタクリル基含有アルコキシシランの光硬化
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(7)メタクリル基含有トリメトキシシランの光硬化
- シリコ-ン-PMMA系グラフト・ブロック共重合体ブレンドフィルムのESCA表面分析
- ヒドロキシフェニル基置換オリゴシロキサンの合成とその平衡重合
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化 II. ビニル基含有アルコキシシランの光硬化
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化 I. エポキシ基含有アルコキシシランの光硬化
- シロキサン含有芳香族ポリイミドの合成とその接着性
- シクロテトラシロキサン基含有メタクリレート共重合体の表面特性
- 解説 熱分解ガスクロマトグラフィによる高分子材料分析 (機器特集)
- 解説XIII「新しいエレクトロニクス関連材料とデバイス」を始めるにあたって
- 国際プラスチックフェア′96(IPF′96)から話題を拾って(1)原材料・コンパウンド・資材を中心に
- レ-ザ-ラマン分光法の基礎と応用--FT-ラマンを中心に
- シクロテトラシロキサン基含有メタクリル酸エステル共重合体の架橋
- NIR-FT-Raman分光法によるポリオレフィンの結晶化度の評価
- 高分子材料の屈折率制御 金属酸化物ナノ粒子を用いた高屈折率材料