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住友電気工業(株)伊丹研究所 | 論文
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- 多孔質窒化ケイ素セラミックスの精密濾過フィルタ-性能の評価
- CVD法によるTiC-SiC系被覆膜の残留応力
- CVD法により合成したTiC-SiC系複合材料の破壊靭性と高靭化機構
- 327 セラミックコーティング膜のX線応力測定(応力測定)
- CVD法によるC/CコンポジットへのTiC-SiC系高耐酸化コーティング
- ZnSe系白色発光ダイオード
- 高耐摩耗性ナノ構造窒化ケイ素の開発
- 高周波用AlN多層基板の開発
- セラミック薄膜で絶縁した高密度実装用薄膜配線基板
- リ-ドフレ-ム材料 (ULSIを支える材料とプロセス技術)
- 傾斜機能超硬工具 (特集 傾斜機能材料)
- 最近の化合物半導体基板技術動向
- ダイヤモンドホモエピタキシャル膜の表面構造
- ダイヤモンドエピタキシャル膜の表面観察
- 住友電気工業(株)における地球環境問題への取り組み
- 工具-被削材熱電対用温度校正装置の試作と二, 三の実験結果
- 住友電気工業伊丹研究所来訪記 : ドイツ結晶成長学会との国際交流
- エネルギー 新正極基材を用いたNi-MH電池の電池特性
- 2段式回転炭化炉によるWO3粉末から直接WC生成の検討