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九州産業大学芸術学部写真学科 | 論文
- Telecommunication of the Printed Image in Japan
- Studies on Photoresist of Ketone Polymer
- Norrish Type 2反応に於ける1.4 Biradical
- ポリ(4-ジメチルアミノ-4′-(ビニルベンジルオキシ)ベンザルアセトフェノン)の合成とその可視光フォトポリマ-への応用
- ポリメタクリル酸クロリドの電子ビ-ム照射特性 (フォトポリマ-)
- 3-メチル-3-ブテン-2-オン共重合体の光分解
- ビニルケトンポリマ-のレ-ザ-フラッシュホトリシス
- 画像再現論 ( X ) : 近代印刷へのあゆみ
- メチルビニケトンの基礎的研究-18-ポリメチルイソプロペニルケトンの光分解
- 東雲(しののめ)
- 作品XXI
- ポリ(4-(3-ビニルベンジルオキシ)アセトフェノン)及びスチレン共重合体の感光特性
- 4-(ビニルベンジルオキシ)ベンザルアセトフェノン共重合体の合成とオフセットプレ-トへの応用
- 画像形成のための材料・機器選択基準に関する研究(VI) : 情報機器導入の実態とトータルスキャナーによる作品の評価(第33回研究発表大会)
- 画像形成のための材料・機器選択基準に関する研究(V) : トータルスキャナーによる画像設計(第32回研究発表大会)
- アルゴンレ-ザ-感光性ポリマ-の合成と感光特性
- ケトンポリマ-およびそのコポリマ-の光分解 (フォトポリマ-)
- ポリマ-の光分解とポジ型感光材料への応用-4-メチルイソプロペニルケトン-アクリレ-ト類共重合体の光分解と分光エネルギ-感度測定
- ポリマ-の光分解とポジ型感光材料への応用に関する研究-2-ポリtert-ブチルビニルケトン及び共重合体の光分解とフォトレジストへの応用
- ポリマ-の光分解を利用したポジ型感光材料に関する研究-1-ポリメチルイソプロペニルケトン及びポリフェニルビニルケトンの光分解