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上村工業 | 論文
- Cr-SiC複合皮膜の作製と摩耗特性
- 3価クロムめっき浴からのCr-SiC,Cr-Diamond複合皮膜
- 硫酸第2クロム(3)-ギ酸カリウム浴からのクロムめっきのかたさ
- Snウィスカー防止効果を有するPbフリーSn-Cu合金めっき
- 解説 透明電極用酸化亜鉛膜の新規製造方法 (特集 ソフト溶液プロセス)
- タッチパネル用透明電極を目的とした無電解ZnO皮膜の作製
- 無電解めっきを利用した表面硬化処理
- 無電解Ni-P/PTFE複合めっきの自動液管理装置
- 昭和62年度金属表面技術協会賞(技術賞)受賞技術--コンピュ-タ用高密度ハ-ドディスクのための下地めっき技術を中心としたシステム開発
- めっき浴の自動管理 (エレクトロニクスと表面処理技術特集号)
- ふっ素系高分子含有ニッケルめっき (話題のめっき技術)
- 複合めっきによる高分子粒子分散層とその性質 (「微粒子,分散系を利用した電気化学」特集号)
- 高分子フッ素化合物含有ニッケル複合めっき法
- はっ水性粉末を用いた複合めっき
- はんだめっき代替鉛フリーすず-銅合金めっき技術
- 鉛フリ-ハンダメッキ浴「ソフトアロイLM」 (エレクトロニクス実装技術1997年) -- (実装関連部品・材料編)