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(株) 小糸製作所 | 論文

• 導電率の温度係数が負となるa-SiC : H膜形成へのSiH4/CH4ガス流量比の影響
• プラズマCVD法 a-Si1-xCx : H膜の導電率のアニール特性
• 輝度コントラスト計測によるレーンマークの視認性評価

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