Hayakawa Tetsuo | TOYOTA Central R&D Labs., Inc., 41-1 Aza Yokomichi, Oaza Nagakute, Nagakute-cho, Aichi 480-11, Japan

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TOYOTA Central R&D Labs., Inc., 41-1 Aza Yokomichi, Oaza Nagakute, Nagakute-cho, Aichi 480-11, Japan | 論文

• Mechanism of Residue Formation in Silicon Trench Etching Using a Bromine-Based Plasma

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