HIGUCHI Ken | Division of Aerospace Engineering, Muroran Institute of Technology
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概要
論文 | ランダム
- 不純物蓄積によるスパッタリングへの影響 (第49回同志社大学理工学研究所研究発表会 2011年度学内研究センター合同シンポジウム 講演予稿集)
- ドライプロセスによるITO粉の合成とそれを用いて作製したITOターゲットのライフ特性
- Er.Y.SiO結晶導波路における導波特性の評価 (光エレクトロニクス)
- スパッタリング法による希土類ドープTaO薄膜の作製とその発光特性の評価 (光エレクトロニクス)
- 招待講演 酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響 (シリコン材料・デバイス)