IKEMOTO Yukio | Institute for Advanced Studies on Asia, The University of Tokyo
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概要
論文 | ランダム
- Thermal Stability of Amorphous-like WN_x/W Bilayered Diffusion Barrier for Chemical Vapor Deposited-Tungsten/p^+-Si Contact System
- Suppression of Fluorine Impurity in Blanket Chemical Vapor Deposited Tungsten Film for Via Fills with A Novel Two-step Deposition Technique
- C-2-55 ポリマー分散液晶の応答時間特性
- ネマティック液晶材料の応答時間特性の測定法
- ネマティック液晶の実効配向係数