鈴木 義茂 | 産総研エレクトロニクス:CREST-JST

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概要

• 同名の論文著者
• 産総研エレクトロニクス:CREST-JSTの論文著者

産総研エレクトロニクス:CREST-JST | 論文

• 8aWA-1 Cr(001)超薄膜を挿入した強磁性トンネル接合のTMR効果(トンネル磁気抵抗・メゾスコピック伝導,領域3)
• 25pXJ-2 トンネル磁気抵抗素子における量子サイズ効果の理論(25pXJ 強磁性トンネル接合・磁壁,領域3(磁性,磁気共鳴分野))

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