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Ge J. | IALT Member, Department of Architecture, Zhejiang Univercity
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γ線照射KCI単結晶の電子伝導と絶縁破壊
γ線照射重合時のメチルメタクリレートの絶縁特性の変化
マイラの電気伝導と絶縁破壊
固体絶縁破壊と二次的因子の影響
X線着色結晶の絶縁破壊
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