Nagata Akiyoshi | Faculty of Engineering, Hiroshima University, Saijo-cho, Higashi-Hiroshima 724

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概要

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Faculty of Engineering, Hiroshima University, Saijo-cho, Higashi-Hiroshima 724 | 論文

• Downstream Etching of Si and SiO2 Employing CF4/O2 or NF3/O2 at High Temperature

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