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Kurihara Kenji | NTT Basic Research Laboratories, 3-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-01, Japan
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NTT Basic Research Laboratories, 3-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-01, Japan | 論文
Novel Proximity Effect Including Pattern-Dependent Resist Development in Electron Beam Nanolithography
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