YOSHITOMI JYOUKI | Technology Research Laboratory, Krosaki Harima Corp.

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概要

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• Technology Research Laboratory, Krosaki Harima Corp.の論文著者

論文 | ランダム

• 片ロ-ル法により作製されたアモルファスFe-Zr合金の表面結晶相についての研究
• Study on Gate Around Transistor (GAT) Layout for Radiation Hardness(Session9A: Silicon Devices IV)
• X線カウンタ-ビ-ム用湾曲結晶モノクロメ-タ-の製作
• 非晶質Co-B系合金の低温比熱
• Study on Gate Around Transistor (GAT) Layout for Radiation Hardness(Session9A: Silicon Devices IV)

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