SUZUYA Kentaro | Japan Atomic Energy Research Institute (JAERI, Spring8)
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概要
論文 | ランダム
- Fe-SiO_2グラニュラー膜のXPS分析
- 高周波 - 直流結合形マグネトロンスパッタリングによる薄膜物性制御
- C-6-14 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiNi_x薄膜の作製
- 変形磁界型高周波マグネトロンスパッタ法によるNi薄膜の堆積速度
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるNiターゲットを用いた放電特性と直流バイアスによるNi薄膜の堆積速度制御効果