Saitoh Yukisige | R&D Technical Support Center, NEC Co.
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概要
論文 | ランダム
- 26a-STF-23 ECRプラズマによるSiのエッチング特性の検討
- 27a-V-5 (ZiTi+PbO)ターゲットを用いたRF反応性スパッタ法によるPZT薄膜堆積の基本特性
- 27p-ZF-2 イオンビームスパッタ法によるSiGe薄膜のエピタキシャル成長
- 30p-E-4 反応性スパッタ法による酸化物薄膜の形成条件
- PB-27 透明トランスジューサ法PASによるSiの光吸収係数の評価 : トランスジューサの光吸収と多重反射の効果(P.ポスターセッションB-概要講演・展示)