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Iba Yoshihisa | Fujitsu Limited, Akiruno Technology Center, 50 Fuchigami, Akiruno, Tokyo 197-0833, Japan
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Fujitsu Limited, Akiruno Technology Center, 50 Fuchigami, Akiruno, Tokyo 197-0833, Japan | 論文
Effects of Etch Rate on Plasma-Induced Damage to Porous Low-$k$ Films
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