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Nagarekawa Osamu | R&D Center, HOYA Corp., 3-3-1 Musashino, Akishima, Tokyo 196-8510, Japan
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R&D Center, HOYA Corp., 3-3-1 Musashino, Akishima, Tokyo 196-8510, Japan | 論文
Evaluating the Optical Index of Ta and Ta-Based Absorbers for an Extreme Ultraviolet Mask Using Extreme Ultraviolet Reflectometry
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