TOCHIKUBO Kouya | the Dept. of Communications and Integrated Systems, Tokyo Institute of Technology:the Systems Integration Technology Center, Toshiba Solutions Corporation

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概要

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論文 | ランダム

• K-0912 パルス電析により作成したニッケル薄膜の表面ラフニング(G04-3 破壊ほか)(G04 機械材料・材料加工部門一般講演)
• 1608 低電流密度で電気メッキにより作成したニッケル薄膜の AFM 研究
• オーステナイトステンレス鋼溶接金属表面の粒界移動について
• オーステナイトステンレス鋼溶接金属の粒界移動シミュレーション
• 溶液成長に於ける溶質場の安定性解析

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