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HASSELKAMP Dietmar | Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen
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Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessenの論文著者
Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen | 論文
Highly (112)-Oriented CulnS_2 Thin Films Deposited by a One-Stage RF Reactive Sputtering Process : Surfaces, Interfaces, and Films
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